ASML Holding N.V.（全稱：Advanced Semiconductor Materials Lithography，中文：阿斯麥）是全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體光刻設(shè)備制造商，總部位于荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven）。公司專注于研發(fā)和生產(chǎn)用于芯片制造的光刻機(jī)，其技術(shù)是半導(dǎo)體行業(yè)的核心驅(qū)動力之一。

YieldStar 系列產(chǎn)品型號及特點

YieldStar 125

應(yīng)用：適用于成熟制程的光刻工藝監(jiān)控。

功能：基礎(chǔ)版量測系統(tǒng)，提供套刻誤差（overlay）和關(guān)鍵尺寸（CD）的快速檢測。

YieldStar 135

升級點：更高精度的量測能力，支持更復(fù)雜的工藝節(jié)點（如28nm及以上）。

技術(shù)：增強(qiáng)型光學(xué)傳感器和算法，提升振動補(bǔ)償性能。

YieldStar 145

先進(jìn)制程支持：專為7nm、5nm等先進(jìn)節(jié)點設(shè)計，精度達(dá)亞納米級。

集成性：可與EUV光刻機(jī)協(xié)同工作，實時反饋數(shù)據(jù)優(yōu)化曝光過程。

YieldStar 375/375E

高性能型號：針對3nm及以下制程，支持多參數(shù)量測（套刻、聚焦、劑量等）。

EUV兼容：優(yōu)化用于EUV光刻環(huán)境，減少噪聲干擾。

技術(shù)亮點

振動補(bǔ)償：通過實時監(jiān)測晶圓臺振動，動態(tài)調(diào)整光刻機(jī)參數(shù)，確保曝光精度。

多波長光學(xué)技術(shù)：部分型號支持多種波長量測，適應(yīng)不同材料層。

其他注意事項：

更詳細(xì)的技術(shù)資料需通過提供項目詳情獲取，歡迎咨詢。

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